武汉水解清洗炉

      水解清洗炉工艺的特点是两个完全不同的相，发生在280℃至440℃的温度下(过滤器的温度低于400℃)。

       第 1 阶段是通过用过热蒸汽使清洁室熔化而获得的水解。在这样的环境中，由于蒸汽和温度的作用，多种聚合物降解产生越来越小的分子链，直到它们达到蒸汽状态。必须进行水解阶段直至完全除去聚合物部分。

       第 2 阶段是通过用过热空气使腔室熔化以除去在片上水解留下的烟灰薄层或不易水解的化合物而获得的氧化，只有当过滤器表面上的可氧化物质的质量很小以至于它将产生可忽略的发热效应时，才必须开始氧化。